印度商业与工业部工业和内贸促进司（DPIIT）下属的印度专利、外观设计与商标总局（CGPDTM）欣然宣布，以“外观设计——美学创作之庆典”为主题的《2000年外观设计法》实施25周年庆祝活动，将于2025年5月25日正式拉开帷幕。

这一具有里程碑意义的盛事凸显了工业外观设计作为知识产权重要组成部分的重要意义，其对经济发展，特别是微型、小型和中型企业（MSME）及初创企业领域的发展贡献巨大。

自2000年5月25日颁布以来，《2000年外观设计法》在保护设计师的美学创造力、推动创新方面发挥了关键作用。主要成就包括：

在外观设计评估中采用全球新颖性标准。

印度于2019年加入《工业品外观设计国际分类洛迦诺协定》。

2014年将微型、小型和中型企业纳入优惠范围，2021年将初创企业纳入优惠范围，降低其申请费用。

2024年在利雅得签署《外观设计法条约》（DLT）。

外观设计注册流程实现全面数字化转型。

提供外观设计电子注册簿等在线工具，并实现申请实时追踪。

为纪念这一重要里程碑，印度专利、外观设计与商标总局将举办一系列活动及宣传倡议，以庆祝并提升公众对印度外观设计生态系统的认知。诚邀包括设计专业人士、创新者、微型、小型和中型企业、初创企业及广大公众在内的各方利益相关者参与庆祝活动。

如需了解最新动态及活动详情，请参阅公告PDF文件

来源：https://www.ipindia.gov.in/newsdetail.htm?1082

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