日本专利局举办第十届ID5年度会议——新技术对设计保护带来的新挑战日益受到关注

时间:2025-02-18

来源:日本专利局

作者:

类型:商标;专利;版权;域名


涉及国家/地区:日本

发布时间:2025-02-18

技术领域:{{fyxType}}

2024年12月12日,日本专利局(JPO)在神奈川县箱根举办了第十届工业设计五局论坛(ID5)年度会议,该论坛由日本、美国、欧洲、中国和韩国的知识产权局组成,世界知识产权组织(WIPO)作为观察员出席。JPO局长小野先生和第一审查部部长野中先生作为JPO代表出席了会议。


会议期间,ID5合作伙伴认识到由于元宇宙和生成式AI等新技术的发展,设计领域面临的新挑战的重要性。我们确认了在这些问题上继续合作的承诺。


此外,会议还进行了讨论,回顾了包括由JPO领导的两个项目在内的十个现有合作项目的成果和未来方向。


此外,JPO新提出的“新技术对设计系统带来的挑战”项目,以及中国国家知识产权局(CNIPA)/欧盟知识产权局(EUIPO)新提出的“数字设计申请信息用户指南”项目,均被采纳。


次日,12月13日,ID5用户会议以线上线下结合的方式举行,面向包括国内外行业协会和专利代理人协会在内的设计系统用户。除了各局关于最新政策发展的报告外,来自各国的用户代表还围绕“设计的当代方面——AI、互联网侵权等”主题进行了演讲和意见交流。


会议同意2025年ID5会议将由美国专利商标局(USPTO)主办。


JPO将继续推进ID5的倡议,为日本优秀设计在全球范围内得到更恰当的保护和利用创造环境。



本文原文为英文,中文为机器翻译,仅供参考,如有问题或建议,欢迎随时与我们联系。



x
{{message}} 忘记密码? 免费注册
{{message}} 已有账号? 返回登录

注册完成